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在前不久的 GTC 2023 上,英伟达带来了一项突破性的技术——cuLitho计算光刻技术软件库,可将计算光刻加速40倍以上,为推进2nm甚至更先进工艺奠定基础。
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6.8Ω(6R8) ±5% 编带
品牌:EVER OHMS(天二科技)
CR1218J6R8E04
封装/规格:1218我要选购
220KΩ(224) ±5% 编带
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WR25X224JTL
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RC0402JR-071R8L
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75Ω(750) ±5% 编带
品牌:RALEC(旺诠)
RTT05750JTP
封装/规格:0805我要选购
0.047Ω(0R047) ±1% 编带
CR1206F0R047P05
封装/规格:1206我要选购
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